平面研磨的运动轨迹及原

UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术

推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考摘要：. 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角, X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、X-Y联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究 X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - nwpu.cn

232-241 2019-1456 肖燏婷

研究表明:偏摆式驱动下的平面研磨轨迹线更加复杂无序,磨粒覆盖面积更大,能更快地获得更均匀的轨迹线分布,且在无理转速比下无明显牛顿环现象,轨迹线的均匀性显著提高;相同转速 2023年12月8日为了在自由磨料研磨过程中实现 mpcvd（微波等离子化学气相沉积）多晶金刚石晶片的卓越表面形状精度，本研究采用了基于旋转摆动驱动的平面研磨。这项研究基于回转摆动驱动的平面研磨磨粒轨迹仿真与实验 ...摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹曲率研究光学 ...

平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹曲率研究. 为提高研磨抛光加工表面质量, 利用Matlab软件编制程序对不同参数下轨迹曲线曲率进行计算分析。结果表明, 转速比对磨粒运动轨迹曲为了提高摆动固定磨料平面研磨(sfapl)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的运动学模型。摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动 ...平面研磨的运动模型. 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数平面研磨的运动模型 - 百度学术